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新型透明导电膜制造技术获中国专利金奖
2014-12-18

      第十六届中国专利奖颁奖大会近日在北京举行,本届中国专利奖评选出20项金奖项目。以印刷电子中心主任崔铮研究员为第一发明人的“图形化柔性透明导电膜及其制法”发明专利(ZL201110058431.X)获中国专利金奖。

      崔铮研究员及其所领导的团队研发出一种基于纳米材料印刷的新型透明导电膜制造技术,该项技术的核心发明专利“图形化柔性透明导电膜及其制法”于2012年10月获得国家知识产权局授权。这种新型透明导电膜可以取代目前广泛使用的氧化铟锡(ITO)透明导电材料,用于制造手机与平板电脑触摸屏、有机发光与显示、薄膜光伏等大量需要透明电极材料的产品。与ITO透明电极技术相比,这种新型透明导电膜制造技术具有低能耗、低污染、低成本等一系列优势,可以实现卷对卷印刷方式大批量制备。这种新型柔性透明导电膜的导电性比传统ITO柔性透明导电膜高百倍以上,而且透光性与可挠性均大大好于ITO透明导电膜。该项技术一经推出即被誉为触摸屏行业的一项颠覆性制造技术。为了使这项技术迅速产业化,崔铮研究员及其科研团队采取了与国内触摸屏制造龙头企业欧菲光合作的途径,利用欧菲光雄厚的资金、丰富的量产经验与成熟的市场渠道,迅速将这项新技术实现批量化生产并推向市场,目前已进入国内外知名手机与平板电脑产品。这项专利在欧菲光实施仅一年时间即取得了销售收入3.3亿元的业绩。该项创新技术也得到了国际上的普遍认可,崔铮研究员领导的中科院苏州纳米所印刷电子中心与欧菲光研发团队相继获得“国际印刷电子技术进步奖“与“第10届英国工程技术学会(IET)创新提名奖”。


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